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富加鎵業(yè)氧化鎵外延片完成MOSFET橫向功率器件驗證

發(fā)布時間:2024-10-30

在國內(nèi)外同行重點關(guān)注氧化鎵單晶材料研制的同時,杭州富加鎵業(yè)科技有限公司(以下簡稱富加鎵業(yè))提前布局氧化鎵外延技術(shù)攻關(guān)。在國家重點研發(fā)計劃“大尺寸氧化鎵半導(dǎo)體材料與高性能器件研究”項目支持(項目編號:2022YFB3605500)支持下,研制了高性能MBE外延片,并與國家重點研發(fā)計劃項目器件團隊合作,成功制備了擊穿電壓大于2000V,電流密度為60 mA/mm的MOSFET橫向功率器件,與進口同類型外延片制備器件性能相當(dāng)。

01

產(chǎn)品規(guī)格


富加鎵業(yè)提供分子束外延技術(shù)(MBE)制備的氧化鎵外延片產(chǎn)品,采用非故意摻雜層與Sn摻雜層復(fù)合的雙層外延結(jié)構(gòu),襯底材料為半絕緣型(010)Fe摻雜氧化鎵,主要應(yīng)用于橫向功率器件。常規(guī)產(chǎn)品摻雜層載流子濃度為1-4E17cm-3,遷移率>80 cm2/V·s,表面粗糙度<2 nm。

02

驗證結(jié)果


國家重點研發(fā)計劃項目合作器件團隊對該款MBE氧化鎵外延片產(chǎn)品進行了初步流片驗證,12 μm柵漏間距氧化鎵MOSFET器件電流密度為60 mA/mm(圖a),比導(dǎo)通電阻約為42 mΩ?cm2,擊穿電壓可達(dá)2242 V(圖b),與采用進口同類材料的器件性能相當(dāng)。富加鎵業(yè)也將根據(jù)器件研制反饋結(jié)果,持續(xù)改進和優(yōu)化,對外延產(chǎn)品進行新一輪迭代,致力于為下游器件廠商提供穩(wěn)定可控的高質(zhì)量氧化鎵單晶襯底及外延產(chǎn)品,為我國打造有國際競爭力的氧化鎵產(chǎn)業(yè)鏈提供材料保障,實現(xiàn)我國氧化鎵基器件全鏈路貫通。

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圖a-b 柵漏間距LGD=12 μm,柵極長度LG=1.5 μm時,氧化鎵MOSFET的直流輸出特性曲線和擊穿曲線。


關(guān)于我們



杭州富加鎵業(yè)科技有限公司成立于 2019年 12 月 31 日,是杭州光學(xué)精密機械研究所注冊成立的第一家“硬科技〞企業(yè),公司以“讓世界用上好材料”為愿景,開展寬禁帶半導(dǎo)體氧化鎵材料的產(chǎn)業(yè)化工作,主要從事氧化鎵單晶材料生長、氧化鎵襯底及外延片研發(fā)、生產(chǎn)和銷售工作,產(chǎn)品主要應(yīng)用于功率器件、微波射頻及光電探測等領(lǐng)域。

目前,公司已獲得多項榮譽:

2022年獲得浙江省科技型中小企業(yè);2023年獲得國家高新技術(shù)企業(yè);2024年獲得杭州市企業(yè)高新技術(shù)研發(fā)中心及浙江省專精特新中小企業(yè);承擔(dān)了國家發(fā)改委氧化鎵項目1項,參與了國家科技部、浙江省、上海市等國家及省部級項目3項。另外,獲得國際專利授權(quán)12項(美國6項,日本6項),國內(nèi)專利授權(quán)37項,“富加鎵業(yè)”商標(biāo)認(rèn)證注冊3項,軟件著作權(quán)(“一鍵長晶”控制軟件)2項。